반도체 MFC란? Etch Gas Flow가 흔들리는 이유 7가지
반도체 MFC란 무엇일까요? Mass Flow Controller의 작동 원리부터 Etch Gas Flow가 흔들리는 이유 7가지, Chamber Pressure와 Plasma, Etch Rate 및 Selectivity에 미치는 영향까지 장비 엔지니어 관점에서 설명합니다. Etch 장비를 다루다 보면 RF Generator나 Matcher처럼 눈에 띄는 장비도 있지만, 공정 결과에 상당히 중요한 영향을 주면서도 상대적으로 관심을 덜 받는 부품이 있습니다. 바로 **MFC(Mass Flow Controller)**입니다. 처음 … 더 읽기