GAA 반도체 Etch가 왜 중요할까? Si·SiGe Selective Etch 원리
GAA 반도체 Etch는 왜 중요할까요? Si·SiGe Selective Etch와 Channel Release 원리부터 Plasma, RF, 선택비와 Nanosheet 형성 과정을 장비 관점에서 쉽게 설명합니다. 반도체 Etch 장비를 다루면서 공정을 공부하다 보면 처음에는 RF, Gas, Pressure 같은 장비 Parameter에 눈이 많이 갑니다. 저도 처음에는 비슷했습니다. RF Power가 정상인지, Pressure가 제대로 잡히는지, Gas Flow에 이상은 없는지처럼 장비 자체를 이해하는 데 … 더 읽기