반도체 Etch

Selective Etch란? 원하는 물질만 골라 깎는 반도체 식각 기술의 핵심

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Selective Etch 반도체 선택적 식각 기술 원리

Selective Etch란 무엇일까요? 원하는 물질만 선택적으로 제거하는 반도체 식각 원리부터 Selectivity, Plasma, RF, Gas Chemistry와 GAA에서 중요한 이유까지 쉽게 설명합니다. 반도체 Etch 장비를 처음 접했을 때 저는 식각이라는 공정을 비교적 단순하게 생각했습니다. “필요 없는 부분을 Plasma로 제거하는 공정.” 크게 보면 틀린 말은 아닙니다. 그런데 장비를 계속 접하고 공정을 조금씩 공부하다 보니 Etch에서 정말 어려운 건 … 더 읽기

Atomic Layer Etching이란? 일반 Etch와 다른 차세대 반도체 ALE 기술

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Atomic Layer Etching ALE 차세대 반도체 식각 기술

Atomic Layer Etching이란 무엇일까요? Etch 장비를 다루며 알게 된 ALE의 원리부터 기존 Plasma Etch와의 차이, Self-Limiting 반응, GAA와 차세대 반도체에서 중요한 이유까지 쉽게 알아봅니다. 반도체 Etch 장비를 다루다 보면 결국 한 가지 생각을 하게 됩니다. “도대체 어디까지 정밀하게 깎을 수 있을까?” 저도 처음에는 Etch 공정을 비교적 단순하게 생각했습니다. Chamber 안에 Gas를 넣고 Plasma를 발생시킨 다음, … 더 읽기