GAA

Selective Etch란 무엇일까요? 원하는 물질만 선택적으로 제거하는 반도체 식각 원리부터 Selectivity, Plasma, RF, Gas Chemistry와 GAA에서 중요한 이유까지 쉽게 설명합니다. 반도체 Etch 장비를 처음 접했을 때 저는 식각이라는 공정을 비교적 단순하게 생각했습니다. “필요 없는 부분을 Plasma로 제거하는 공정.” 크게 보면 틀린 말은 아닙니다. 그런데 장비를 계속 접하고 공정을 조금씩 공부하다 보니 Etch에서 정말 어려운 건 … 더 읽기