Atomic Layer Etching이란? 일반 Etch와 다른 차세대 반도체 ALE 기술
Atomic Layer Etching이란 무엇일까요? Etch 장비를 다루며 알게 된 ALE의 원리부터 기존 Plasma Etch와의 차이, Self-Limiting 반응, GAA와 차세대 반도체에서 중요한 이유까지 쉽게 알아봅니다. 반도체 Etch 장비를 다루다 보면 결국 한 가지 생각을 하게 됩니다. “도대체 어디까지 정밀하게 깎을 수 있을까?” 저도 처음에는 Etch 공정을 비교적 단순하게 생각했습니다. Chamber 안에 Gas를 넣고 Plasma를 발생시킨 다음, … 더 읽기