Source RF와 Bias RF는 무엇이 다를까? Etch Plasma를 결정하는 두가지 RF의 역할1
Source RF와 Bias RF는 무엇이 다를까요? Etch 장비에서 Plasma Density와 Ion Energy를 제어하는 두 RF의 역할부터 Matcher, Sheath, Reflected Power와 Etch 결과의 관계까지 쉽게 설명합니다. Etch 장비를 처음 접했을 때 RF Generator라는 장비가 있다는 것은 알았지 부터 RF의 역할을 정확하게 이해했던 것은 아닙니다. 처음에는 그냥 이렇게 생각했습니다. “RF Power를 넣어서 Plasma를 만드는 장치 아닌가?” 큰 … 더 읽기